KTP-H2201系列采用高可靠性磁悬浮结构设计，适用于离子注入、PVD、CVD、ALD及Etch等多类半导体真空工艺场景。
产品兼容主流设备接口体系，具备优异的系统适配能力与长期稳定运行性能，可满足复杂工艺环境下的高洁净真空需求。
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适配主流半导体设备平台的高稳定性真空方案
产品介绍
产品特点
产品参数表
| 分子泵型号 | KTP-H2201 | |
| 法兰尺寸 | 进气端 | ISO250B/VG250 |
| 出气端 | KF40 | |
| 吹扫口 | KF10 | |
| 冷却水接口 |
RC1/4 |
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额定转速（r/min） |
27000 | |
| 抽速（L/s） | N2 | 2100 |
| He | 2240 | |
| Ar | 2000 | |
| 压缩比 | N2 | 1.0×109 |
| He | 7.0×104 | |
| Ar | 1.0x109 | |
| 极限压强 (Pa) | 10-7 | |
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最大入口压力（Pa） |
45 | |
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最大出口压力（Pa） |
350 | |
| 跌落转速 (r/min) | 4800 | |
| 额定功率 (W) | 1500 | |
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启动压力（Pa） |
2000 | |
| 升速时间 (min) | ＜11 | |
| 降速时间 (min) | ＜15 | |
| 安装角度 (°) | 任意角度 | |
| 冷却方式 | 水冷 | |
| 振动 (㎛) | 0.01 | |
| 噪声 (dB) | ＜57 | |
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控制器类型 |
分体式 | |
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控制线长度（m） |
任意可选 | |
| 质量(kg) | 65 | |
