面向先进半导体制造的高流量磁悬浮真空解决方案
产品介绍
KTP-H4503系列采用高可靠性磁悬浮结构设计,具备优异的大流量抽速能力与快速升降速性能,可满足CVD、ALD、Etch、离子注入及PVD等高负载工艺环境需求。
产品支持一体式与分体式结构配置,适用于不同工艺设备及复杂安装环境,可提升系统集成灵活性与长期运行稳定性。


产品特点

产品参数表

分子泵型号

KTP-H4503WC(XI)

法兰尺寸

进气端

VG350/CF400

出气端

KF40/KF50

吹扫口

KF10

冷却水接口

RRC1/4

额定转速 (r/min)

24000

抽速 (L/s)

N2

4400

He

3900

Ar

4200

H2

2600

压缩比

N2

4.8×108

He

1.0×105

Ar

1.0x1010

H2

3.8x104

极限压强 (Pa)

<10-7

允许背压 (Pa)

≥270

最大入口压力 (Pa)

50

最大出口压力 (Pa)

370

跌落转速 (r/min)

4800

额定功率 (W)

不加热:1500

加热:2000

启动压力 (Pa)

2000

升速时间 (min)

<12

降速时间 (min)

12

<工作温度 (℃)

-15~55

烘烤温度 (℃)

≥100

安装角度

任意角度

冷却方式

水冷

振动 (㎛)

<0.01

噪声(dB)

<50

控制器类型

分体式

控制线长度 (m)

任意可选

断电保护

支持

质量 (kg)

107

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流量统计代码